【光学掩模版】的繁体字： 光學掩模版
【光学掩模版】的读音为 guāng xué yǎn mó bǎn，无声调拼音为 guang xue yan mo ban，简拼为 GXYMB
【光学掩模版】的笔画分别为6画、8画、11画、14画、8画，部首分别为儿部、子部、扌部、木部、片部。
【分字繁体字】光的繁体字 学的繁体字 掩的繁体字 模的繁体字 版的繁体字
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。