【物理气相沉积】的繁体字： 物理氣相沈積
【物理气相沉积】的读音为 wù lǐ qì xiāng chén jī，无声调拼音为 wu li qi xiang chen ji，简拼为 WLQXCJ
【物理气相沉积】的笔画分别为8画、11画、4画、9画、7画、10画，部首分别为牜部、王部、气部、目部、氵部、禾部。
【分字繁体字】物的繁体字 理的繁体字 气的繁体字 相的繁体字 沉的繁体字 积的繁体字
物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。